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PVD真空镀膜

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PVD真空镀膜厂家PVD真空镀膜的原理

来源:www.hx-pvd.com 发表时间:2020-12-18

(一)真空蒸镀原理
(1) 真空蒸镀是在真空条件下,将镀料加热并蒸发,使大量的原子、分子气化并离开液体镀料或离开固体镀料表面(升华)。
(2)气态的原子、分子在真空中经过很少的碰撞迁移到基体。
 (3)镀料原子、分子沉积在基体表面形成薄膜。
 (二)蒸发源
将镀料加热到蒸发温度并使之气化,这种加热装置称为蒸发源。最常用的蒸发源是电阻蒸发源和电子束蒸发源,特殊用途的蒸发源有高频感应加热、电弧加热、辐射加热、激光加热蒸发源等。
 (三)真空蒸镀工艺实例 以塑料金属化为例,真空蒸镀工艺包括:镀前处理、镀膜及后处理。
真空蒸镀的基本工艺过程如下:
 (1)镀前处理,包括清洗镀件和预处理。具体清洗方法有清洗剂清洗、化学溶剂清洗、超声波清洗和离子轰击清洗等。具体预处理有除静电,涂底漆等。
(2)装炉,包括真空室清理及镀件挂具的清洗,蒸发源安装、调试、镀件褂卡。
(3)抽真空,一般先粗抽至6.6Pa以上,更早打开扩散泵的前级维持真空泵,加热扩散泵,待预热足够后,打开高阀,用扩散泵抽至6×10-3Pa半底真空度。
(4)烘烤,将镀件烘烤加热到所需温度。
(5)离子轰击,真空度一般在10Pa~10-1Pa,离子轰击电压200V~1kV负高压,离击时间为5min~30min,
(6)预熔,调整电流使镀料预熔,除气1min~2min。
(7)蒸发沉积,根据要求调整蒸发电流,直到所需沉积时间结束。
(8)冷却,镀件在真空室内冷却到一定温度。
(9)出炉,取件后,关闭真空室,抽真空至l × l0-1Pa,扩散泵冷却到允许温度,才可关闭维持泵和冷却水。
(10)后处理,涂面漆。