在江苏PVD真空镀膜过程里，偏压的施加对膜层生长形态调控准确性高。当施加负偏压时，真空室中的离子会在电场作用下加速向工件（作为阴极）运动。若偏压较小，离子对工件表面的轰击能量较低，主要促进膜层原子的扩散，利于形成平整、致密的膜层；随着偏压增大，离子轰击能量提升，会对正在生长的膜层产生溅射效应，可抑制膜层某些方向的生长，促使膜层晶粒细化，同时增强膜层与基体的结合力。
 偏压的施加方式也有讲究，脉冲偏压相比直流偏压，能更灵活地控制离子轰击的时间和能量，减少电弧产生的概率，避免膜层出现缺陷。通过合理设置偏压的大小、脉冲频率和占空比等参数，可准确调控膜层的生长速率、晶粒尺寸、晶体取向等，从而得到符合特定需求的膜层生长形态。