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PVD真空镀膜

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PVD真空镀膜 ( 离子镀膜 ) 技术和设备常见问题解答

来源:www.hx-pvd.com 发表时间:2019-11-28

Q1:请问什么是PVD ?

A1: PVD是英文Physical Vapor Deposition 的缩写,中文意思是“物理气相沉积”,是指在真空条件下,用物理的方法使材料沉积在被镀I件上的薄膜制备技术。

Q2:请问什么是PVD镀膜?什么是PVD镀膜机?

A2: PVD(物理气相沉积)技术主要分为三类,真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。相对于PVD技术的三个分类,相应的真空镀膜设备也就有真空蒸发镀膜机、真空溅射镀膜机和真空离子镀膜机。近十多年来,真空离子镀技术的发展是最快的,它已经成为了当代*********的表面处理方法之一。我们通常所说的PVD镀膜,指的就是真空离子镀膜;通常所说的PVD镀膜机,指的也就是真空离子镀膜机。

Q3:请问PVD真空镀膜的具体原理是什么?

A3:离子镀膜(PVD镀膜)技术,其原理是在真空条件下,采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质电离,在电场的作用下,使被蒸发物质或其反应产物沉积在工件上。

Q4:请问PVD镀膜与传统的化学电镀(水电镀)相比有何优点?

A4: PVD真空镀膜与传统的化学电镀的相同点是,两者都属于表面处理的范畴,都是通过一定的方式使一 种材料覆盖在另-种材料的表面。两者的不同点是: PVD镀膜膜层与工件表面的结合力更大,膜层的硬度更高,耐磨性和耐腐蚀性更好,膜层的性能也更稳定; PVD镀膜可以镀的膜层的种类更为广泛,可以镀出的各种膜层的颜色也更多更漂亮;PVD镀膜不会产生有毒或有污染的物质。