你知道PVD真空镀膜的三种加工工艺吗？分别为：真空蒸镀、溅射镀和离子镀，它们有什么区别呢？区别主要如下:
 1、从膜层特点看：真空蒸镀密度小但表面光滑，低温孔多，附着力差，内应力拉应力绕射性差；溅射密度大，孔少，但溅射气体多，附着力好，内应力压应力差，绕射性差；离子镀密度高，无孔，但膜缺陷多，附着力好，内应力取决于工艺条件，绕射性好。
 2、从被沉积物质的气化方式看：真空蒸发为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等。；溅射镀原子不是通过加热蒸发，而是通过阴极溅射获得沉积原子；离子镀可分为蒸发或溅射、电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等，进入辉光放电空间的原子由气体提供，反应物沉积在基板上。
 3、从镀膜的原理及特点看：真空蒸发工件不带电，真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面，沉积颗粒的能量与蒸发时的温度相对应。溅射工件为阳极，靶为阴极。利用氩原子的溅射作用，将靶原子击出并沉积在工件表面。沉积原子的能量由溅射原子的能量分布决定。离子镀工件为阴极，蒸发源为阳极。进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件，并在工件表面沉积成膜。在沉积过程中，离子轰击基板表面、膜层与基板的界面和膜层本身，粒子的能量取决于阴极上的电压。