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PVD真空镀膜

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pvd真空镀膜的具体原理是什么

来源:www.hx-pvd.com 发表时间:2019-11-12

PVD真空镀膜(Physical Vapor Deposition)---物理气相沉积:指利用物理过程实现物质转移,将原子或分子由源转移到基材表面上的过程。它的作用是可以使某些有特殊性能(强度高、耐磨性、散热性、耐腐性等)的微粒喷涂在性能较低的母体上,使得母体具有更好的性能。

这就使得某些简单易得的材料通过PVD真空镀膜处理之后,具有材料改性难以达到的性能,从而在一定程度上满足了人们对美观、质感、耐候等的需求。

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