PVD电镀对基体材料的表面粗糙度有一定要求。合适的表面粗糙度有助于镀层与基体的结合。如果基体表面过于粗糙，在电镀过程中，金属离子会优先沉积在表面的凸起部位，导致镀层厚度不均匀，且容易在凹坑处形成空洞，降低镀层的致密性和结合力。
 相反，若基体表面过于光滑，镀层与基体之间的机械咬合作用减弱，结合力也会受到影响。一般来说，对于大多数PVD电镀工艺，基体表面粗糙度Ra值在0.2-1.6μm较为合适。在进行PVD电镀前，需要对基体材料进行适当的表面处理，如打磨、抛光等，以达到合适的表面粗糙度，从而保证镀层质量和性能。