江苏PVD真空镀膜时，真空室的压强一般控制在10⁻²～10⁻⁴ Pa的高真空范围。这是因为在高真空环境下，气体分子数量极少，能减少气体对蒸发或溅射粒子的散射，使粒子更易沿直线运动到达基片表面，从而保证镀膜质量。
 当真空室压强出现波动时，对镀膜均匀性影响显著。若压强升高，真空室内气体分子增多，蒸发或溅射出来的粒子在运动过程中会与更多气体分子发生碰撞，运动轨迹变得杂乱无章，不再是直线飞向基片，导致基片不同区域接收到的粒子数量不均匀，膜层厚度也就不一致，均匀性变差。
 反之，若压强降低过多，虽能减少气体分子的影响，但可能会影响等离子体的稳定性（如在溅射镀膜中），进而也会间接影响粒子的产生与沉积过程，同样可能破坏膜层的均匀性。所以，准确控制真空室压强并保持其稳定，是实现江苏PVD真空镀膜均匀性的重要前提。