高折射率PVD膜层（如氮化钛、碳化钛）因内部应力大，易出现开裂或剥落，这是行业内较难解决的问题。先要优化镀膜工艺参数：采用脉冲偏压电源替代直流电源，通过周期性调整偏压大小，降低离子轰击的强度，减少膜层内部的残余应力。
 其次引入多层梯度结构，在高折射率膜层与基材之间，逐层调整膜层的成分比例，例如从纯钛过渡到氮化钛，使膜层的折射率和应力逐步变化，避免因应力突变导致开裂。同时在镀膜过程中引入惰性气体（如氩气）进行离子辅助沉积，通过控制气体流量和离子能量，细化膜层晶粒，提升膜层的柔韧性。
 采用退火处理，在镀膜完成后将工件放入真空退火炉，以100℃/小时的速率升温至200℃，保温2小时后缓慢冷却，释放膜层内部应力。通过这些措施，高折射率PVD膜层的开裂率可降低90%以上，膜层的使用寿命也能提升3倍左右。