PVD真空镀膜中，常用的镀膜材料主要有以下几类：
 金属材料方面，铝因出色的导电、导热与反射性能，在光学镀膜以及电子器件镀膜领域大量应用，常作为反光镜、电极的镀膜用料。金的化学稳定性强，导电性和延展性优良，在电子元器件、集成电路镀膜中，能提升导电性与耐腐蚀性。
 化合物材料里，氮化锆拥有高硬度、高熔点以及良好化学稳定性，PVD真空镀膜的膜层呈现金黄色，在装饰镀膜和刀具镀膜中应用，能增强刀具的硬度和耐磨性。碳化硅凭借高硬度、高导热性与良好化学稳定性，常用于半导体器件、高温部件的镀膜，可提高部件的耐高温和耐腐蚀能力。
 陶瓷材料中，二氧化钛具备良好的光学性能、化学稳定性和光催化性能，常用于光学镀膜、自清洁镀膜，有助于提高玻璃等材料的透光性和自清洁能力。氮化硼具有高硬度、高绝缘性和良好的耐高温性能，可用于刀具、模具的镀膜，提高其硬度和脱模性能。