PVD真空镀膜出现膜层厚度不均匀现象，这可能有多种原因。PVD真空镀膜厂家带大家了解一下。
 一是靶材的问题，如果靶材表面不均匀磨损或有杂质附着，会导致溅射出来的物质分布不均，从而影响膜层厚度均匀性。例如，靶材长期使用后，某些部位磨损严重，溅射效率变低。
 二是真空室内的气体流场不稳定，气体的流动和分布不均匀会使镀膜物质在工件表面的沉积不均匀。比如，进气管道的设计不合理或者气体流量控制不准确，都可能导致这种情况。
 解决方法是定期检查和更换靶材，确保靶材表面的平整度和纯度；优化真空室的气体进气系统，保证气体流场的稳定性。