PVD真空镀膜的边缘翘边是实际生产中容易被忽略的细节问题，其核心原因是镀层与基材的应力不匹配。先在镀膜前要对基材边缘进行倒圆角处理，避免尖锐边角同时采用离子源清洗工艺，用氩离子轰击基材表面，除去边缘的油污和氧化层，增强镀层附着力。
 PVD真空镀膜过程中，采用梯度沉积法：先沉积一层薄的过渡层，比如铬层，再沉积目标镀层，如氮化钛，通过过渡层缓解应力差。同时调整真空室的偏压参数，在镀膜后期逐步降低偏压，让镀层分子缓慢沉积，减少内应力。
镀膜完成后，进行低温退火处理，将基材放入150℃的恒温炉中保温2小时，释放镀层内部应力。经过这些步骤，镀层边缘的附着力可提升30%以上，解决翘边问题，尤其适用于精密五金、刀具等边缘要求高的产品。