真空度是PVD真空镀膜过程中极为关键的参数，对镀膜质量有着多方面的重要影响。当真空度较低时，镀膜环境中的气体分子数量较多。这些气体分子会与蒸发或溅射出来的镀膜粒子发生碰撞，改变粒子的运动轨迹，导致薄膜沉积不均匀。同时，气体分子还可能与镀膜粒子发生化学反应，引入杂质，影响薄膜的纯度，使得薄膜的性能，如硬度、耐腐蚀性等下降。
 而当真空度足够高时，气体分子的干扰大大减少。镀膜粒子能以更直接的路径到达基材表面，这样沉积的薄膜会更加均匀、致密。而且，高真空环境有利于减少杂质的混入，保证薄膜的纯度，从而提升薄膜的各项性能，比如使薄膜具有更加好加的附着力、更优的光学性能等。所以，为了获得高质量的薄膜，PVD真空镀膜通常需要在较高的真空度下进行。