对于PVD真空镀膜厂家的设备而言，不同靶材的溅射速率受多种关键因素影响。先是气体压强，合适的气体压强能保证等离子体的密度和能量，压强过高会导致离子平均自由程过短，离子能量损耗大，溅射速率降低；压强过低则等离子体难以形成，溅射也无法进行。
 其次是靶材与基板的距离，距离过近，靶材表面的溅射粒子容易在基板上堆积，但也可能因粒子运动路径短，能量传递不足，影响后续粒子的溅射；距离过远，溅射粒子在到达基板前会有更多的碰撞和损耗，导致到达基板的粒子减少，溅射速率间接受到影响。
 还有放电功率，功率决定了等离子体中离子的能量和数量，功率增大，离子轰击靶材的能量和频率提高，能使更多靶材原子被溅射出来，从而提高溅射速率，但功率过高可能会使靶材过热，甚至出现靶材熔化等问题，反而不利于稳定溅射。另外，靶材自身的物理特性，如原子序数、密度、熔点等也很关键，原子序数大、密度高的靶材，原子间结合力强，相对更难被溅射，溅射速率通常较低；而熔点较低的靶材，在相同条件下，原子更容易获得足够能量脱离靶材表面，溅射速率可能相对较高。