真空镀膜层附着力不足，主要与前期工件预处理、镀膜过程参数设置及靶材选择有关。
 若工件表面存在油污、灰尘、氧化层等杂质，会直接影响镀膜层与工件基底的结合，导致附着力下降，因此镀膜前须通过超声波清洗、等离子体清洗等方式清洁工件表面，确保无杂质残留。
 其次，真空镀膜设备镀膜过程中的真空度、沉积温度、离子轰击能量等参数把控不当也会影响附着力，比如真空度不足时，空气中的杂质会干扰膜层沉积，沉积温度过低则可能导致膜层结晶不充分，结合力变弱；而适当提高沉积温度、增强离子轰击强度，能促进膜层原子与工件基底原子的扩散结合，提升附着力。
 此外，靶材与工件基底的材质匹配度也很关键，若两者热膨胀系数差异过大，真空镀膜设备镀膜后冷却过程中易因应力集中导致膜层脱落，此时需选择与基底材质相容性好的靶材，或通过制备过渡层来缓解应力。