PVD真空镀膜对环境条件要求颇为严格。温度上，PVD真空镀膜设备一般需于温度相对稳定的环境运作，合适温度区间大致在20℃-25℃。温度偏高，或许会干扰镀膜材料的蒸发及沉积进程，致使膜层质量降低；温度偏低，则可能让设备部分部件运转不稳定。
 湿度方面，环境湿度应把控在40%-60%。湿度过高，镀膜室内易有水汽凝结，影响膜层与基体的结合程度，还可能使膜层产生针孔等瑕疵。
 此外，环境洁净程度极为关键。镀膜车间须维持高度清洁，需配置空气净化系统，避免灰尘、颗粒等杂质进入镀膜室。这些杂质一旦黏附于基体表面，会严重影响膜层的均匀性与外观品质。