在PVD真空镀膜进程中，膜层产生颗粒状缺陷可能源于多种因素。
 一，镀膜材料纯度差是重要原因。若材料内含有杂质，于蒸发或溅射期间，杂质便会以颗粒形态附着于膜层表面。
 二，真空室清洁不达标同样会致使该问题出现。室内留存的灰尘、碎屑等微小颗粒，在镀膜时会混入膜层之中。
 三，镀膜设备的靶材表面状况不理想，例如呈现粗糙、氧化等情形，会让溅射出来的粒子分布不均，进而形成颗粒状缺陷。为解决此问题，需选用高纯度的镀膜材料，定期对真空室进行全面清洁，并且维护好靶材表面，保证其平整且无氧化现象。