极有可能是在镀膜材料沉积之际，生成了不合预期的晶相构造。像加热环节里极小的温度把控失误，便可能导致材料结晶形态变化，进而于特定波段引发多余的吸收与散射状况。
 与此同时，真空环境里残留的微量杂质气体参与了镀膜反应，这同样会对膜层光学特性进行改变，从而导致特定波段透过率出现异常波动情形。对此，应当准确地校正镀膜时的温度调控设施，并且加大对真空室的抽气作业力度与清洁频次，大大程度降低杂质气体所产生的不良影响，从而保障膜层在特定波段的光学透过率能够维持稳定且符合预期标准。