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PVD真空镀膜

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PVD真空镀膜颜色不均匀的原因与应对策略是什么?

来源:www.hx-pvd.com 发表时间:2024-08-28

 PVD真空镀膜颜色不均匀的原因包括:
 1.靶材的分布不均匀,导致镀膜时不同区域的沉积速率不同。
 2.真空室里的气体分布不均匀,影响了膜层的生长。
 3.基片的表面平整程度不够,使膜层的厚度存在差异。
 解决办法如下:
 1.合理地布置靶材的布局,保证靶材在真空室内均匀分布,从而使镀膜各区域的沉积速率保持一致。
 2.对真空室内的气体流场进行优化,通过调整气体进气口的位置以及调控气体流量,使气体分布均匀。
 3.提高基片表面的平整度,预先对基片进行处理,像进行研磨、抛光之类的操作,保证基片表面平整,让膜层厚度实现均匀。 

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