聚氯乙烯涂层技术的基本原理是，在真空泵环境中，根据高电压电弧放电技术，利用气体放电挥发溅射靶，使挥发性化学物质水解，在静电场的影响下，使挥发性化学物质或其反射物质附着在产品工件上。
    首先介绍磁控溅射涂料工艺。磁控溅射涂料是指在溅射靶材与真空系统壁之间提高静电场，使氩气瓶水解，加速氩正离子与溅射靶材表面的碰撞。溅射靶材被亚正离子碰撞，而溅射靶材分子溢出，以数十甚至数百个电子伏的机械能奔向镀硅片表面，附着在底材表面。分子机械能挥发性高于2个量级，充电密度高达98%，折射率高且稳定。
    与传统的有机化学电镀工艺相比，PVD电镀的区别在于，一种原材料通过方式附着在另一种原材料的表面。但两者也有区别。PVD涂层与工件表面的结合性较高，涂层硬度较高，耐磨性和耐腐蚀性较强，涂层性能久；PVD电镀可以广泛的涂层类型，各种涂层颜色多，不会造成有害或环境污染。
    溅射涂层加工工艺具有精度、晶体厚度可控性等优点。这一特点体现在大面积的基板材料上。我们可以根据所需的厚度设计理想的原材料。塑料薄膜还具有纯度高、密度好、与材料结合性强的特点。在加工工艺方面，蒸发涂层的生产制造复杂性低于溅射靶材。蒸发涂层的优点取决于工艺简单、操作简单、涂层速度快。
    聚氯乙烯真空电镀广泛应用于电子行业，由于塑料非常容易形成，成本低，质量很轻，具有耐腐蚀优点，根据聚氯乙烯真空电镀可使塑料表面具有导电性能，聚氯乙烯涂层也可降低其吸水性，如晶体涂层后，针眼会降低，吸水性会降低，表面涂层工件表面金属纹理丰富多彩，装饰效果也有质的提高。