PVD真空镀膜，全称为物理气相沉积，其核心原理是在真空环境下，通过物理方法将镀膜材料（靶材）转化为气相原子、分子或离子，然后沉积到基材表面形成薄膜。
 利用真空系统把反应腔室的气压降到极低，这样能减少气体分子对沉积粒子的干扰。接着，采用不同的物理手段使靶材产生气相粒子，常见的有蒸发和溅射两种方式。蒸发法是通过加热靶材，使其达到蒸发温度，原子或分子获得足够能量脱离靶材表面，成为气相；溅射法则是利用高能粒子（如氩离子）轰击靶材，使靶材表面的原子或分子被撞击出来形成气相。
 这些气相粒子在真空环境中运动，从而在基材表面凝结、堆积，逐渐形成具有特定性能的薄膜。整个过程在真空下进行，能避免杂质混入，保证薄膜的纯度和质量，而且可以准确控制薄膜的厚度、成分等参数，满足不同的应用需求